磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜
俞振南; 姜乐; 熊志华; 郑畅达; 戴江南; 江风益
南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心； 南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心 江西南昌330031； 江西南昌330031；
YU Zhen-nan,JIANG Le,XIONG Zhi-hua,ZHENG Chang-da,DAI Jiang-nan,JIANG Feng-yi(Education Ministry Engineering Research Center for Luminescent Materials and Devices,Nanchang University,Nanchang 330047,China)
摘要 采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的
关键词 ：
ZnO ,
磁控溅射 ,
粗糙度 ,
透光光谱 ,
溅射功率
Abstract ：ZnO films which have preferred orientation were deposited on glass substrate by RF magnetron sputtering.The thickness(deposition rate),crystal quality,morphology and roughness,transmittance spectrum of ZnO films at different sputtering powers were measure
Key words ：
transmittance spectrum
roughness
sputtering power；
magnetron sputtering
ZnO
出版日期: 2007-10-28
引用本文:
俞振南; 姜乐; 熊志华; 郑畅达; 戴江南; 江风益. 磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜[J]. 南昌大学学报（理科版）, 2007, 31(05): 1-.
链接本文:
http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xblxb/CN/ 或 http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xblxb/CN/Y2007/V31/I05/1
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2007, Vol. 31 