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掺杂硅基氧化薄膜光致发光特性研究 |
王水凤; 王平; 曾宇昕; 徐飞 |
南昌大学物理学系!南昌330047; 南昌大学计算中心!南昌330047; 南昌大学材料科学工程系!南昌330047; |
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Wang Shuifeng Wang Ping Zeng Yuxin Xu Fei(Department of Physics,Nanchang University,Nanchang,330047) |
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赵勇; 侯硕; 俞进; 方利广; 郑军; 盛广沪. 注入剂量和低温退火对硅离子注入热氧化硅层发光特性的影响[J]. 南昌大学学报(理科版), 2011, 35(06): 1-. |
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