电极对PZT铁电薄膜的铁电和光学性能的影响
张景基; 赖珍荃; 王震东; 李新曦; 钟双英; 范定寰; 黄志明
南昌大学材料科学系； 南昌大学物理学系； 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室 江西南昌330031； 江西南昌330031； 上海200083；
ZHANG Jing-ji1,LAI Zhen-quan2,WANG Zhen-dong1,LI Xin-xi1,ZHONG Shuang-ying1,2,FAN Ding-huan2,HUANG Zhi-ming3(1.Department of Material Science,Nanchang University,Nanchang 330031,China;2.Department of Physics,Nanchang University,Nanchang 330031,China;3.Na
摘要 采用射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)工艺在Si片上分别制备Pt/Ti和LaNiO3(LNO)底电极,然后在不同的底电极上沉积PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)铁电薄膜,在大气环境中对沉积的PZT薄膜进行快速热退火处理(RTA)。用X射线衍射(XRD)分析PZT薄膜的相结构和结晶取向,原子力显微镜(AFM)
关键词 ：
射频磁控溅射 ,
快速热退火处理 ,
PZT铁电薄膜
Abstract ：Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT) ferroelectric thin films were grown on Ti buffered Pt(111) and LaNiO3(LNO) thin film bottom electrodes on Si substrate by rf magnetron sputtering,followed by a rapid thermal annealing(RTA) process in air ambience.X-ray diffraction(
Key words ：
rapid thermal annealing；
PZT ferroelectric thin films
RF magnetron sputtering
出版日期: 2007-08-28
引用本文:
张景基; 赖珍荃; 王震东; 李新曦; 钟双英; 范定寰; 黄志明. 电极对PZT铁电薄膜的铁电和光学性能的影响[J]. 南昌大学学报（理科版）, 2007, 31(04): 1-.
链接本文:
http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xblxb/CN/ 或 http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xblxb/CN/Y2007/V31/I04/1
2007, Vol. 31 