硅芯片多层薄膜折射率的测量
钟仕科; 廖乐祥
江西大学物理系； 江西大学物理系；
Zhong Shike;Liao Lexaing Jiangxi University
摘要 本文介绍一种测量透明薄膜折射率的“磨角—干涉”法。根据光干涉原理,推导了薄膜折射率的表达式n=1+△N1/△N2。此法可用于测量半导体器件和大规模集成电路芯片中的单层或多层膜的折射率。
关键词 ：
多层薄膜 ,
折射率 ,
干涉条纹 ,
光干涉原理 ,
介质膜 ,
透明薄膜 ,
透明膜 ,
表达式 ,
二氧化硅 ,
多层膜
Abstract ：The paper presents a "Grinding Angle--Interference" method of measu-ring the refactive index of thin films. The refractive index of thin film,n=1-2△N1/△N2, is derived from the principle of interference of light. Themethod can be used to measure the refr
出版日期: 1984-09-28
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1984, Vol. 8 