南昌大学学报（理科版）
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2011, Vol. 35(06): 1- DOI:
注入剂量和低温退火对硅离子注入热氧化硅层发光特性的影响
赵勇; 侯硕; 俞进; 方利广; 郑军; 盛广沪
南昌大学理学院；
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