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| 空气对HAC太阳电池晶体硅/本征非晶硅界面污染情况分析 |
| 杨烁陈坤张衡王贵林黄海宾袁吉仁 |
| 南昌大学光伏研究院浙江爱旭太阳能科技有限公司乐山职业技术学院南昌大学理学院 |
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摘要 采用热丝CVD法在N型体硅上以全程真空环境镀膜与IN镀膜后破真空再镀IP的不同形式,分别生长IN-IP非晶硅膜层,用WCT-120对薄膜钝化性能进行分析,并用wxAMPS软件模拟样品电池效率。比对结果表明:全程真空环境镀膜样品的反向饱和电流密度（J0）和理论开压（iVOC）分别为5.12×10-15 A·cm-2和0.731 V,模拟效率为23.15%;IN-IP破真空镀膜样品的J0和iVOC分别为9.06×10-14 A·cm-2和0.654 V,模拟效率为20.24%。因此,热丝CVD全程真空环境相对于IN-IP破真空镀膜具有更优的膜层生长方法。
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| 关键词 ：
热丝CVD,
晶体硅/非晶硅,
全程真空,
破真空,
镀膜,
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| 基金资助: 国家自然科学基金资助项目(11964018)； 科技部国家重点研发计划课题(2018YFB1500403)；
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