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| 光CVD—SiO_2薄膜的性能及其应用 |
| 王晓俊; 罗庆芳; 邹道文; 郭述文; 夏至洪 |
| 南昌大学高新技术研究所； 南昌大学应用物理所； 江西师范大学； |
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| Wang Xiaojun; Luo Qifang; Zhou Daowen; Guo Shuwen; Xia Zihong (High-New Tech. Res. Inst, Nanchang University, Nanchang, 330047)(Institute of Applied Physics, Nanchang University, Nanchang, 330047)(Jiangxi Normal University, Nanchang, 330006) |
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摘要 采用光ＣＶＤ法制备了良好的ＳｉＯ２薄膜，为半导体器件及传感器表面修饰提供了一条新型可行的途径。
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| 关键词 ：
性能,
光CVD,
薄膜
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| Abstract：SiO2 film of good quality was manufactured by photo-CVD method. A new decorative way for semiconductors and gas sensors is presented. |
| Key words：
speciality；
photo-CVD
film
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出版日期: 1996-03-28
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| 引用本文: |
王晓俊; 罗庆芳; 邹道文; 郭述文; 夏至洪. 光CVD—SiO_2薄膜的性能及其应用[J]. 南昌大学学报（理科版）, 1996, 20(01): 1-.
Wang Xiaojun; Luo Qifang; Zhou Daowen; Guo Shuwen; Xia Zihong (High-New Tech. Res. Inst, Nanchang University, Nanchang, 330047)(Institute of Applied Physics, Nanchang University, Nanchang, 330047)(Jiangxi Normal University, Nanchang, 330006). . , 1996, 20(01): 1-.
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| 链接本文: |
| http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xblxb/CN/ 或 http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xblxb/CN/Y1996/V20/I01/1 |
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1996, Vol. 20 