高速钢表面渗硅沉积金刚石
曾效舒; 魏秉庆; 梁吉; 吴德海
南昌大学机电工程学院!江西南昌330029； 清华大学机械工程系!北京100084；
Zeng Xiaoshu (Mechanical and Electronic Engineering School,Nanchang University,Nanchang 330029,China)Wei Bingqing Liang Ji Wu Dehai (Department of Mechanical Engineering,Tsinghua University,Beijing 100084,China)
摘要 研究了利用表面扩散渗硅 ,在高速钢基底上沉积金刚石的工艺方法 利用SEM ,X射线衍射技术检验了金刚石膜和试样表面组织的变化 结果表明 ,利用表面扩散渗硅 ,在高速钢表面形成富硅层 ,使过渡层有较高的含硅量 ,有利于在高速钢基底上沉积金刚石膜
关键词 ：
渗硅 ,
金刚石膜 ,
CVD ,
高速钢
Abstract ：Experiments have been performed to deposit diamond films on the high speed steels (HS steels) with superficial layer of high silicon content.The superficial layer with high silicon content was made using the technology of high temperature diffusion of sil
Key words ：
high speed steel；
diffusion of silicon
diamond films
CVD
出版日期: 2000-06-28
引用本文:
曾效舒; 魏秉庆; 梁吉; 吴德海. 高速钢表面渗硅沉积金刚石[J]. 南昌大学学报（工科版）, 2000, 22(02): 1-.
链接本文:
http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xbgkb/CN/ 或 http://qks.ncu.edu.cn/Jwk_xbgkb/CN/Y2000/V22/I02/1
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2000, Vol. 22 