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| 轴向磁场强度对真空电弧离子镀TiN薄膜的影响 |
| 徐焱良； 王向红； 赵彦辉； 高斌； 肖金泉； 于宝海； |
| 温州大学物理与电子信息工程学院； 温州职业技术学院温州市材料成型工艺与模具技术重点实验室； 中国科学院金属研究所专用材料与器件研究部 |
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| XU Yanliang;WANG Xianghong;ZHAO Yanhui;GAO Bin;XIAO Jinquan;YU Baohai |
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摘要 采用电弧离子镀方法在不锈钢基体上沉积了TiN薄膜,考察了弧靶与基体之间等离子通道上的轴向磁场强度(0-300高斯)对薄膜表面形貌、组织结构、硬度及弹性模量的影响。结果表明,随着轴向磁场的不断增强,等离子体密度及能量密度不断增大,阴极靶斑点处被熔化的靶材区域增大,阴极斑点附近局部蒸气压升高,薄膜表面较大尺寸的大颗粒数、凹坑数量会因此增多,薄膜粗糙度会因此增大;生长取向由(111)面择优转为(220)面择优并最终趋向无择优取向;薄膜表面硬度及弹性模量均呈现先增大后减小的趋势。 更多还原
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| 关键词 ：
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电弧离子镀； skey=%e7%94%b5%e5%bc%a7%e7%a6%bb%e5%ad%90%e9%95%80">电弧离子镀； sfield=kw&,
轴向磁场； skey=%e8%bd%b4%e5%90%91%e7%a3%81%e5%9c%ba">轴向磁场； sfield=kw&,
TiN薄膜； skey=TiN%e8%96%84%e8%86%9c">TiN薄膜； sfield=kw&,
硬度')" href="#">skey=%e7%a1%ac%e5%ba%a6">硬度
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2014, Vol. 38 
