TiN涂层的工艺分析
周细应; 万润根; 陈凯旋
南昌航空工业学院；
Zhou Xiying;Wan Rungen;Chen Kaixuan(Nanchang Institute of Aeronautical and Technology)
摘要 本文在不同工艺条件下进行多弧离子镀ＴｉＮ涂层。利用扫描电镜、Ｘ射线衍射仪、Ｍ－２００磨损试验机以及显微硬度计等，对ＴｉＮ涂层的表面形貌、组织结构和性能进行了分析，揭示了弧靶磁场氮分压等工艺对ＴｉＮ涂层组织结构性能的综合影响。
关键词 ：
离子镀 ,
氮分压 ,
磁场
Abstract ：n this paper,the TiN coating was plated by multi arc source ion plating equipment.It was investigated that the surface topography,structure and performance of film indifferent technological conditions by SEM、 XRD、M200 wearing machine and microhardometer
Key words ：
N2 partial pressure；
Ion plating
Magnetic field
出版日期: 1994-09-28
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1994, Vol. 16 